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【MAFT 2026 | H1技術研討會】「矽」光啟程-從 GAAFET、CPO 矽光子到 3D-IC 的跨界佈局

2026/03/27

 

閎康科技於2026年3月27日在竹科矽導總部大廳隆重舉辦2026上半年度「MAFT 技術發表會」,以「矽」光啟程-從 GAAFET、CPO 矽光子到 3D-IC 的跨界佈局為主題,吸引超過 650 位國內外來賓透過現場及遠端參與,反應非常熱烈。此次活動另一亮點,是有超過 40 位法人、券商、投資人及媒體記者報名參與。他們期待透過技術專家的深入解析,更真實地掌握 CPO、矽光子等市場高度關注技術的實際發展樣貌,進一步釐清哪些是具體可落地的技術趨勢,哪些又是市場過度期待下的想像與渲染。

 

閎康科技謝詠芬董事長與施韋總經理

 

 

活動一開始,由閎康科技董事長謝詠芬致詞。謝董事長簡要說明公司持續投入研發與客戶開發的決心與整體布局,展現深耕先進半導體領域的長期策略。致詞中亦提及矽光子客戶的成長動能,指出閎康科技某單一國外矽光子大客戶於 2025 年的業績較 2024 年成長達 100%,而 2024 年以前的成長率更超過 200%。該客戶委託閎康執行各項分析服務的年度總金額,已突破新台幣 8,000 萬元,並預期於 2026 年持續維持強勁成長趨勢。

 

若統計閎康的國外的三大矽光子大客戶年營收,貢獻閎康營業額2億以上,因為閎康是矽光子客戶最佳研發夥伴。這也說明國外客戶研發力道及強度,遠遠不是國內客戶可以比擬。因為在閎康執行分析的產品,幾年後都會成為市場上的主流產品,閎康在一定的程度上,對先進技術進程的了解,掌握度也是很高的。謝博也期許國內客戶,所謂錢花在刀口上,是錢花在製程及產品研發階段,而不是故障分析階段。

 

 

本場研討會第一場開始首先由陽明交通大學光電系特聘講座教授,同時也是鴻海研究院半導體研究所所長的郭浩中教授分享「CPO and InP laser : The Next Evolutionary Step in Data Center Switches」。郭浩中教授從鴻海的全世界技術佈局,整合製造,自動化,以及AI技術應用及雷射的發展,綜觀現在AI技術的發展方向。教授也分享AI伺服器光源技術,熱的問題,以及AI中心訊號連接傳輸的技術發展。郭教授也提到CPO,矽光子以及鴻海自己設計的PIC晶片,已經能夠整合imec,global foundry….等等國際大廠,效能能提供1.6Tbps OSFP DR8 DFB + PIC Transceiver產品以及102.4T CPO Solution產品的使用。郭浩中教授認為未來CPO封裝最大的2大瓶頸是Thermal dissipation及Bandwidth bottlenecks。現場及線上聽眾問題踴躍,超過30個問題,郭浩中教授在演講會中集會後皆一一回答,意猶未盡。

 

陽明交通大學 郭浩中教授

來賓踴躍提問

 

研討會第二場由交通大學光電工程學系/產業創新研究學院前瞻半導體研究所/國際半導體學院劉柏村講座教授擔任講者,演講主題為「從顯示器背板驅動到智慧3D-IC晶片技術:氧化物薄膜電晶體技術的跨域演進」。

 

劉柏村教授聚焦於非晶氧化物半導體(Amorphous Oxide Semiconductors, AOS)的專題演講,內容從基礎材料物理出發,全面勾勒 AOS 技術由顯示應用邁向智慧化與三維整合的發展藍圖。演講首先深入介紹非晶氧化物半導體的材料特性與電性基礎,說明其在低溫製程、高均勻性與大面積製造上的關鍵優勢,奠定其於顯示背板技術中廣泛應用的核心原因。

 

隨後,內容延伸至先進顯示背板技術的最新進展,探討 AOS TFT 如何支援高解析度、高更新率與低功耗顯示需求,並成為新世代顯示器不可或缺的關鍵元件。演講進一步指出,隨著元件性能與整合能力的提升,AOS 技術已不再局限於顯示領域,而是逐步拓展至感測器與 System-on-Panel 等應用,讓感測、運算與顯示得以在同一平台上高度整合。在此基礎上,演講特別介紹 AOS 作為突觸元件在類神經形態運算中的潛力,展現其在類比記憶、可塑性與低功耗人工智慧硬體上的應用前景。最後,演講聚焦於相容於後段製程(BEOL)的 AOS 薄膜電晶體,說明其如何支援單晶片式三維積體電路(Monolithic 3D-ICs, M3D-ICs)的實現,為未來高密度、低能耗的智慧型 3D 系統奠定關鍵技術基礎。整體而言,本次演講清楚勾勒出 AOS 技術從顯示背板出發,邁向感測、運算與三維整合的演進路徑,凸顯其在下一世代智慧電子系統中的戰略性角色。。演講後氣氛熱烈,與會者積極參與技術交流與問答。

 

 

陽明交通大學 劉柏村教授

台灣大學 劉致為教授

 

中場休息後的第三場演講由劉致為教授登場。劉致為教授為國立台灣大學電機工程學系傑出教授、佳明講座教授,並為 IEEE 會士,曾任工研院電子所組長;本次演講主題為「HPC is Too “Hot” and CFET is Hotter」。

 

劉致為教授長期深耕半導體製程與元件技術領域,研究內容涉及前瞻且敏感之技術,並與半導體大廠有多項尖端研究合作,受相關機密規範管制。因此,教授於演講前特別說明,內容皆遵循國家管制與相關法規,並以公開資訊為基礎進行分享。演講從學理出發,透過基礎科學理論、產品需求與邏輯推演,帶領聽眾理解半導體技術的發展趨勢。從 AI、熱管理與能源的觀點切入,結合半導體物理基礎,以深入淺出的方式推導先進製程的發展藍圖,並輔以其研究團隊已發表之技術成果,進行具體說明。

 

劉致為教授指出,AI 發展高度依賴算力,而算力的提升與能源消耗密不可分,並伴隨嚴峻的散熱挑戰。作為半導體專家,需從元件與製程技術層面尋求解方。然而,先進製程中如晶背供電網路(Backside Power Delivery Network, BSPDN)與 CFET(Complementary FET)等技術,雖能突破微縮限制,卻同時加劇熱效應問題。教授從技術與產品應用雙重角度出發,進一步推演未來半導體製程的演進方向,並探討其在手機、電腦及 AI 晶片等應用中的發展與分類。

 

此外,劉致為教授亦分享,其研究團隊運用超過二十年的既有製程設備,成功製作出具前瞻性的先進元件,並驗證其可行性與潛在問題,為未來製程技術鋪路。整場演講內容紮實且脈絡清晰,並以輕鬆風趣的表達方式,獲得現場聽眾一致好評。

 

 

結語

本日活動「MAFT 2026 H1 技術發表會」圓滿落幕。隨著人工智慧技術持續快速演進,AI 晶片已成為整合先進製程、AI 架構設計、CPO 與矽光子半導體製程等多項關鍵技術的智慧結晶,扮演驅動產業升級的重要角色。

 

本次研討會以「MAFT 2026『矽』光啟程-從 GAAFET、CPO 矽光子到 3D-IC 的跨界佈局」為主題,匯聚產學研各界專家學者,深入剖析 GAAFET、CPO 矽光子與 3D-IC 技術的發展趨勢、關鍵挑戰與創新突破,展現半導體產業跨領域整合的最新觀點與前瞻布局。

 

本次活動不僅促進技術交流與知識分享,更為 AI 晶片與先進半導體製程的未來發展描繪清晰藍圖。主辦單位誠摯感謝所有講者的精闢分享與與會來賓的熱情參與。凡對本次技術內容意猶未盡者,歡迎加入閎康材料學院會員,隨時回顧精彩的技術發表會內容。科技持續驅動未來,合作方能成就無限可能,期盼於 2026 MAFT H2 技術發表會與各界先進再度相會。

 

 

若想了解更多技術細節,歡迎至閎康材料學院

 

活動時間

2026/03/27 (五) 13:00~17:00

活動地點

閎康科技 矽導實驗室Show Room / 線上

活動費用

Free